ELECTROSTATIC CHUCK

• Main Authors: SHIRAISHI JUN, ITAKURA IKUO, YAMAGUCHI KOSUKE, MOMIYAMA YUTAKA, SAIGAN SHUICHIRO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 24.09.2019
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOTDIRECTED TO A PARTICULAR RESULT; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER; DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g.ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; GENERATION; MACHINE TOOLS; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OFPARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; PERFORMING OPERATIONS; SEMICONDUCTOR DEVICES; TRANSPORTING

The present invention relates to an electrostatic chuck provided with a porous portion. The purpose of the present invention is to provide the electrostatic chuck capable of reducing arc discharge and facilitating gas flow. The electrostatic chuck comprises: a ceramic dielectric substrate having a first major surface on which adsorption objects are loaded and a second major surface on an opposite side to the first major surface; a base plate supporting the ceramic dielectric substrate and including a gas introduction path; and a first porous portion provided at a position between the base plate and the first major surface of the ceramic dielectric substrate and being opposite to the gas introduction path. The ceramic dielectric substrate includes a first hole portion positioned between the first major surface and the first porous portion. At least one of the ceramic dielectric substrate or the first porous portion includes a second hole portion positioned between the first hole portion and the first porous portion. In a second direction approximately orthogonal to a first direction from the base plate toward the ceramic dielectric substrate, a dimension of the second hole portion is smaller than a dimension of the first porous portion and larger than a dimension of the first hole portion. [과제] 다공질부가 설치된 정전 척에 있어서, 아크 방전의 저감과 가스 흐름의 원활화를 도모할 수 있는 정전 척을 제공하는 것을 목적으로 한다. [해결수단] 흡착의 대상물을 적재하는 제 1 주면과, 상기 제 1 주면과는 반대측의 제 2 주면을 갖는 세라믹 유전체 기판과, 상기 세라믹 유전체 기판을 지지하고 가스 도입로를 갖는 베이스 플레이트와, 상기베이스 플레이트와 상기 세라믹 유전체 기판의 상기 제 1 주면 사이이고, 상기 가스 도입로와 대향하는 위치에 설치된 제 1 다공질부를 구비하고, 상기 세라믹 유전체 기판은 상기 제 1 주면과 상기 제 1 다공질부 사이에 위치하는 제 1 구멍부를 갖고, 상기 세라믹 유전체 기판 및 상기 제 1 다공질부 중 적어도 어느 하나는 상기 제 1 구멍부와 상기 제 1 다공질부 사이에 위치하는 제 2 구멍부를 갖고, 상기 베이스 플레이트로부터 상기 세라믹 유전체 기판으로 향하는 제 1 방향과 대략 직교하는 제 2 방향에 있어서, 상기 제 2 구멍부의 치수는 상기 제 1 다공질부의 치수보다 작고, 상기 제 1 구멍부의 치수보다 큰 것을 특징으로 하는 정전 척이 제공된다.