폴리머의 개질 방법, 이를 이용한 개질 폴리머의 제조 방법 및 개질 폴리머

• Main Authors: INOUE TSUYOSHI, OHKUBO KEI, ITOU YUICHI, TAKAMORI KIYOTO, MIZUTA YASUSHI
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 12.08.2019
• Subjects: AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F,C08G; CHEMISTRY; COMPOSITIONS BASED THEREON; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; METALLURGY; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; WORKING-UP

본 발명은 폴리머를 개질할 수 있는 새로운 방법을 제공한다. 본 발명의 개질 방법은 폴리머 개질 방법으로서, 화합물 라디칼 존재하에서, 폴리머를 함유하는 반응계에 광조사하는 반응 공정을 포함하고, 상기 화합물 라디칼이 15족 원소 및 16족 원소로 이루어지는 군으로부터 선택된 하나의 원소와, 17족 원소를 함유하는 라디칼인 것을 특징으로 한다. The present invention provides a new method by which polymers can be modified. The present invention provides a method for modifying a polymer including the step of: irradiating a reaction system containing a polymer with light to react the reaction system in a presence of a compound radical, wherein the compound radical is a radical containing one element selected from the group consisting of Group 15 elements and Group 16 elements, and a Group 17 element.