METHODS APPARATUS FOR OBTAINING DIAGNOSTIC INFORMATION RELATING TO A LITHOGRAPHIC MANUFACTURING PROCESS LITHOGRAPHIC PROCESSING SYSTEM INCLUDING DIAGNOSTIC APPARATUS
진단 장치는 리소그래피 제조 시스템을 모니터링한다. 기판에 걸친 일부 특성의 로컬 편차를 나타내는 제 1 측정 데이터는 리소그래피 장치 내의 센서(202) 및/또는 별개의 계측 툴(240)을 사용하여 획득된다. 다른 검사 툴(244, 248)은 웨이퍼 후면 검사 및/또는 레티클 후면 검사를 수행하여 제 2 측정 데이터(302)를 생성한다. 고-분해능 후면 결함 이미지는 처리되어 제 1 측정 데이터로부터의 더 저분해능 정보와 비교될 수 있는 형태가 된다. 관찰된 결함 중 어느 것이 제 1 측정 데이터에 표현된 편차들과 공간적으로 상관...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
Published |
03.07.2019
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