메트롤로지 방법 및 장치, 컴퓨터 프로그램 및 리소그래피 시스템

• Main Authors: THEEUWES THOMAS, CRAMER HUGO AUGUSTINUS JOSEPH
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 02.04.2019
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

리소그래피 공정에 의해 기판 상에 형성되는 구조체의 특성을 재구성하는 방법, 및 연계된 메트롤로지 장치가 개시된다. 상기 방법은 리소그래피 공정과 연계된 제 1 파라미터의 측정된 값들을 조합하여, 제 1 파라미터의 추산된 값을 얻는 단계; 및 구조체의 측정 및 제 1 파라미터의 추산된 값을 이용하여, 적어도 구조체의 특성과 연계된 제 2 파라미터를 재구성하는 단계를 포함한다. 조합하는 단계는 제 1 파라미터의 변동을 모델링하여, 제 1 파라미터의 파라미터 모델 또는 핑거프린트를 얻는 단계를 포함할 수 있다. Disclosed is a method of reconstructing a characteristic of a structure formed on a substrate by a lithographic process, and an associated metrology apparatus. The method comprises combining measured values of a first parameter associated with the lithographic process to obtain an estimated value of the first parameter; and reconstructing at least a second parameter associated with the characteristic of the structure using the estimated value of the first parameter and a measurement of the structure. The combining step may comprise modeling a variation of the first parameter to obtain a parameter model or fingerprint of the first parameter.