오버레이 및 임계 치수 센서들에서의 퓨필 조명을 위한 디바이스 및 방법

• Main Authors: SHMAREV YEVGENIY KONSTANTINOVICH, EURLINGS MARKUS FRANCISCUS ANTONIUS
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 11.03.2019
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MATERIALS THEREFOR; MEASURING; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; TESTING

조명 공간 프로파일 유연성, 높은 편광 소광비, 및 높은 콘트라스트를 달성할 수 있는 메트롤로지 장치를 위한 조명 시스템이 개시된다. 조명 시스템은 편광 빔 스플리터(PBS), 조명 모드 셀렉터(IMS), 및 반사형 공간 광 변조기(SLM)를 포함한다. PBS는 조명 빔을 서브-빔들로 분할한다. IMS는 적어도 하나의 서브-빔을 투과시키는 복수의 어퍼처들을 갖고, 조명 모드들에 대응하는 다수 조명 위치들에 배치될 수 있다. 반사형 SLM의 픽셀 어레이는 IMS에 의해 투과된 서브-빔의 부분을 다시 IMS 및 PBS로 반사시킨다. P...