가변적인 공간 해상도를 가지고 웨이퍼와 같은 물체의 2D/3D 검사를 위한 공초점 장치 및 방법

• Main Authors: FRESQUET GILLES, COURTEVILLE ALAIN, GASTALDO PHILIPPE
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 12.11.2018
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES; TESTING

본 발명은 웨이퍼와 같은 물체(10)의 표면을 검사하기 위한 공초점 장치에 관한 것으로서, 이 장치는 복수의 측정 지점들(15)에서 상기 색 렌즈(13)를 통해 상기 물체(10)에 의해 반사되는 광을 수집하기 위해 배치되는 수집 구멍들(14)을 가지는 복수의 광학적 측정 채널들(24), 및 상기 측정 지점들(15)과 상기 수집 구멍들(14)의 상기 공간적 재분리 사이에 가변적인 또는 변경가능한 배율 인자를 도입하기 위해 배치되는 확대 렌즈(31)를 포함한다. 본 발명은 또한 3차원 구조들(11)을 포함하는 웨이퍼와 같은 물체(10)의 표면을 검사하기 위한 방법에 관한 것이다. The present invention concerns a confocal chromatic device for inspecting the surface of an object (10) such as a wafer, comprising a plurality of optical measurement channels with collection apertures (14) arranged for collecting the light reflected by the object (10) through a chromatic lens (13) at a plurality of measurement points (15), and a magnifying lens (31) arranged for introducing a variable or changeable scaling factor between the spatial repartition of the collection apertures (14) and the measurement points (15). The present invention concerns also a method for inspecting the surface of an object (10) such as a wafer comprising tridimensional structures (11).