패터닝 프로세스 파라미터를 결정하는 방법 및 장치

• Main Authors: TSIATMAS ANAGNOSTIS, THEEUWES THOMAS, HINNEN PAUL CHRISTIAAN, CRAMER HUGO AUGUSTINUS JOSEPH, VERMA ALOK, MC NAMARA ELLIOTT GERARD, VAN LEEST ADRIAAN JOHAN
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 24.10.2018
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CALCULATING; CINEMATOGRAPHY; COMPUTING; COUNTING; ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MATERIALS THEREFOR; MEASURING; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; TESTING

파라미터 결정 프로세스를 구성하는 방법으로서, 구조체의 수학 모델을 획득하는 단계 - 상기 수학 모델은, 상기 구조체를 방사선 빔으로 조명하는 경우의 광학적 응답을 예측하도록 구성되고, 상기 구조체는 공칭 물리적 구성에서 기하학적 대칭을 가짐 -; 하드웨어 컴퓨터 시스템에 의하여, 복수 개의 픽셀 감도를 획득하기 위해서, 상기 수학 모델을 사용하여 상기 구조체의 물리적 구성 내에서 특정량의 섭동(perturbation)을 시뮬레이션하여 복수 개의 픽셀 각각 내에서 상기 광학적 응답의 대응하는 변화를 결정하는 단계; 및 상기 픽셀 감도에 기초하여, 상기 물리적 구성 내의 변화와 연관된 파라미터의 값을 산출하도록, 기판 상의 상기 구조체의 측정된 픽셀 광학 특성 값과 조합되기 위한 복수 개의 가중치를 결정하는 단계 - 각각의 가중치는 하나의 픽셀에 대응함 -를 포함하는, 파라미터 결정 프로세스 구성 방법. A method of determining a parameter of a patterning process, the method including: obtaining a detected representation of radiation redirected by a structure having geometric symmetry at a nominal physical configuration, wherein the detected representation of the radiation was obtained by illuminating a substrate with a radiation beam such that a beam spot on the substrate was filled with the structure; and determining, by a hardware computer system, a value of the patterning process parameter based on optical characteristic values from an asymmetric optical characteristic distribution portion of the detected radiation representation with higher weight than another portion of the detected radiation representation, the asymmetric optical characteristic distribution arising from a different physical configuration of the structure than the nominal physical configuration.