가드층 시스템 및 공정
본 발명은 탄산에틸렌 및/또는 에틸렌 글리콜의 생성을 위한 반응 시스템을 제공하며, 상기 반응은 촉매적 EO 반응기의 상류에 위치된 가드층 시스템을 포함하고, 상기 가드층 시스템은 처리될 가스 공급물을 공급하는 공급 라인 및 상기 처리된 가스 공급물을 제거하도록 구성된 배출 라인 및 순차적인 순서로 직렬로 배열된 2 이상의 가드층 베셀을 포함하며, 각각의 가드층 베셀은 주입구, 가드층 물질의 층 및 배출구를 포함하되, 각각의 가드층 베셀의 주입구는 공급 라인과 순차적 순서로 그 앞에 있는 가드층 베셀의 배출구 둘 다에 밸브들에 의해...
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Format | Patent |
Language | Korean |
Published |
24.08.2018
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