가드층 시스템 및 공정

본 발명은 탄산에틸렌 및/또는 에틸렌 글리콜의 생성을 위한 반응 시스템을 제공하며, 상기 반응은 촉매적 EO 반응기의 상류에 위치된 가드층 시스템을 포함하고, 상기 가드층 시스템은 처리될 가스 공급물을 공급하는 공급 라인 및 상기 처리된 가스 공급물을 제거하도록 구성된 배출 라인 및 순차적인 순서로 직렬로 배열된 2 이상의 가드층 베셀을 포함하며, 각각의 가드층 베셀은 주입구, 가드층 물질의 층 및 배출구를 포함하되, 각각의 가드층 베셀의 주입구는 공급 라인과 순차적 순서로 그 앞에 있는 가드층 베셀의 배출구 둘 다에 밸브들에 의해...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors BASTINGS ROEL GUILLAUME HUBERTUS LEONARDUS, WARD GREGORY JOHN, BLACK JESSE RAYMOND, EVANS WAYNE ERROL, VAN KLEECK DAVID ALLEN
Format Patent
LanguageKorean
Published 24.08.2018
Subjects
Online AccessGet full text

Cover

Loading…