WORKING SURFACE CLEANING SYSTEM AND METHOD

• Main Authors: DUVALL JAMES H, HUMPHREY ALAN E, BROZ JERRY J
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 31.07.2018
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

세정용 필름이 반도체 공정에 사용되는 세정용 웨이퍼의 작업 표면으로부터 이물질 및 미립자를 제거하도록 설계된다. 이들 공정은 웨이퍼 취급 장비 및 웨이퍼 척을 세정하는 동안에 탐침 카드 핀 및 FEOL 툴을 세정하기 위한 웨이퍼 유형 테스트를 포함한다. 세정용 웨이퍼 작업 표면에 수집된 파편은 미립자 제거 필름에 의해 제거되어서 파편과 이물질이 폐기될 수 있게 한다. 세정용 필름의 사용은 작업자가 외부 제조업체의 사용 없이 세정용 웨이퍼를 재생할 수 있게 하며 세정 공정에서 습식 세척 및 용제의 사용을 제거한다. A cleaning...