프로그래머블 퇴적 장치

• Main Authors: DULLEMEIJER ERNST, DE ROIJ PIETER JAN, CLERKX EDUARD RENIER FRANCISCA
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 04.04.2018
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

프레임 및 중심 축 주위로 연장되는 원통형 표면을 갖는 원통형 드럼을 갖는 퇴적 장치가 제공된다. 드럼은 중심 축에 수직으로 연장되는 제1 단부 표면) 및 제2 단부 표면을 갖는다. 드럼은 프레임에 회전 가능하게 장착되고, 원통형 표면 상에 위치된 복수의 가스 구역들을 포함한다. 포함된 가스 채널들은 femfja 내에서 연장된다. 복수의 가스 구역들 중 적어도 다수가 적어도 2개의 채널들과 가스 연결된다. 퇴적 장치는 가스 구역 가스 연결된 상기 적어도 2개의 채널들 중 하나를 제외한 모두를 차단하는 폐쇄 요소를 포함하고, 그에 의...