프로그래머블 퇴적 장치

• Main Authors: DULLEMEIJER ERNST, DE ROIJ PIETER JAN, CLERKX EDUARD RENIER FRANCISCA
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 04.04.2018
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

프레임 및 중심 축 주위로 연장되는 원통형 표면을 갖는 원통형 드럼을 갖는 퇴적 장치가 제공된다. 드럼은 중심 축에 수직으로 연장되는 제1 단부 표면) 및 제2 단부 표면을 갖는다. 드럼은 프레임에 회전 가능하게 장착되고, 원통형 표면 상에 위치된 복수의 가스 구역들을 포함한다. 포함된 가스 채널들은 femfja 내에서 연장된다. 복수의 가스 구역들 중 적어도 다수가 적어도 2개의 채널들과 가스 연결된다. 퇴적 장치는 가스 구역 가스 연결된 상기 적어도 2개의 채널들 중 하나를 제외한 모두를 차단하는 폐쇄 요소를 포함하고, 그에 의해 드럼을 따라 다양한 가스 구역들에 공급되는 가스의 종류가 프로그램될 수 있다. A deposition apparatus including a frame and a cylindrical drum with a cylindrical surface that extends along a central axis. The drum has a first and a second end surface, which extend perpendicularly to the central axis. The drum is rotatably mounted in the frame and includes a plurality of gas zones positioned on the cylindrical surface. The included gas channels extend within the drum. At least a number of the gas zones are in gas connection with at least two channels. The deposition apparatus includes closing elements for closing off all but one of the at least two channels with which a said gas zone is in gas connection so that the type of gas supplied to the various gas zones along the drum surface is programmable.