더 높은 플라즈마 에너지 밀도를 갖는 유도 플라즈마 토치

• Main Authors: THELLEND SEBASTIEN, BOULOS MAHER I, AUGER ALEXANDRE, DIGNARD NICOLAS, JUREWICZ JERZY W
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 02.03.2018
• Subjects: ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS

유도 플라즈마 토치는 관형 토치 바디, 관형 인서트, 플라즈마 밀폐 튜브 및 환형 채널을 포함한다. 관형 토치 바디는 각각의 내면을 한정하는 상류 및 하류 섹션을 갖는다. 관형 인서트는 관형 토치 바디의 하류 섹션의 내면에 장착된다. 플라즈마 밀폐 튜브는 관형 토치 바디 내에 동축으로 배치된다. 플라즈마 밀폐 튜브는 플라즈마 흐름의 축 방향으로 테이퍼 오프되는 두께를 갖는 관형 벽을 갖는다. 환형 채널은 한편으로는 관형 토치 바디의 상류 섹션의 내면과 인서트의 내면과 다른 한편으로는 플라즈마 밀폐 튜브의 관형 벽의 외면의 사이에 형...