METHOD OF DEPOSITING OXIDIZED CARBON-BASED MICROPARTICLES AND NANOPARTICLES
본 발명은 에너지를 저장하기 위한 컴포넌트들의 분야에 관한 것이고, 지지부 (8) 상에 적어도 그래핀 시트들을 포함하는 나노/마이크로입자들을 퇴적하는 방법에 관한 것이며, 그 방법은: 적어도 그래핀 시트들을 산화하는 단계; 적어도 물을 용매로서 포함하는 적어도 하나의 용액에서 나노/마이크로입자들을 서스펜딩하는 단계; 유체역학 불안정성에 의해, 기판 (15) 상으로 각각의 서스펜션을 분무하는 단계; 앞의 용액들 각각의 끓는점의 1 과 2 분의 1 배 이하 그리고 200℃ 이하의 온도에서 기판 (15) 상으로 분무된 각각의 서스펜션의...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
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18.10.2017
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Abstract | 본 발명은 에너지를 저장하기 위한 컴포넌트들의 분야에 관한 것이고, 지지부 (8) 상에 적어도 그래핀 시트들을 포함하는 나노/마이크로입자들을 퇴적하는 방법에 관한 것이며, 그 방법은: 적어도 그래핀 시트들을 산화하는 단계; 적어도 물을 용매로서 포함하는 적어도 하나의 용액에서 나노/마이크로입자들을 서스펜딩하는 단계; 유체역학 불안정성에 의해, 기판 (15) 상으로 각각의 서스펜션을 분무하는 단계; 앞의 용액들 각각의 끓는점의 1 과 2 분의 1 배 이하 그리고 200℃ 이하의 온도에서 기판 (15) 상으로 분무된 각각의 서스펜션의 각각의 부분으로부터 용매의 완전한 증발을 촉진시키기 위해, 각각의 분무 동안, 기판 (15) 을 가열하는 단계; 퇴적물 (1) 에 존재하는 적어도 산화된 그래핀을 탈산화하기에 충분하고 및 퇴적 단계 동안 기판 (15) 의 온도보다 큰 온도로 분무 또는 분무들 이후에 퇴적물 (1) 을 재가열하는 단계를 포함한다.
A process for the deposition of nano/microparticles, including at least graphene sheets on a support, comprises the following steps: oxidizing at least the graphene sheets; suspending the nano/microparticles in at least one solution comprising at least water as solvent; spraying, by hydrodynamic instability, each suspension over the substrate; heating the substrate, during each spraying, so as to promote the complete evaporation of the solvent from each part of each suspension sprayed over the substrate at a temperature less than or equal to one and a half times the boiling point of each solution and less than or equal to 200° C.; annealing the deposit after the spraying(s) at a temperature sufficient to deoxidize at least the oxidized graphene present in the deposit and greater than the temperature of the substrate during the deposition step. |
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AbstractList | 본 발명은 에너지를 저장하기 위한 컴포넌트들의 분야에 관한 것이고, 지지부 (8) 상에 적어도 그래핀 시트들을 포함하는 나노/마이크로입자들을 퇴적하는 방법에 관한 것이며, 그 방법은: 적어도 그래핀 시트들을 산화하는 단계; 적어도 물을 용매로서 포함하는 적어도 하나의 용액에서 나노/마이크로입자들을 서스펜딩하는 단계; 유체역학 불안정성에 의해, 기판 (15) 상으로 각각의 서스펜션을 분무하는 단계; 앞의 용액들 각각의 끓는점의 1 과 2 분의 1 배 이하 그리고 200℃ 이하의 온도에서 기판 (15) 상으로 분무된 각각의 서스펜션의 각각의 부분으로부터 용매의 완전한 증발을 촉진시키기 위해, 각각의 분무 동안, 기판 (15) 을 가열하는 단계; 퇴적물 (1) 에 존재하는 적어도 산화된 그래핀을 탈산화하기에 충분하고 및 퇴적 단계 동안 기판 (15) 의 온도보다 큰 온도로 분무 또는 분무들 이후에 퇴적물 (1) 을 재가열하는 단계를 포함한다.
A process for the deposition of nano/microparticles, including at least graphene sheets on a support, comprises the following steps: oxidizing at least the graphene sheets; suspending the nano/microparticles in at least one solution comprising at least water as solvent; spraying, by hydrodynamic instability, each suspension over the substrate; heating the substrate, during each spraying, so as to promote the complete evaporation of the solvent from each part of each suspension sprayed over the substrate at a temperature less than or equal to one and a half times the boiling point of each solution and less than or equal to 200° C.; annealing the deposit after the spraying(s) at a temperature sufficient to deoxidize at least the oxidized graphene present in the deposit and greater than the temperature of the substrate during the deposition step. |
Author | BONDAVALLI PAOLO GALINDO CHRISTOPHE POGNON GREGORY |
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SubjectTerms | BASIC ELECTRIC ELEMENTS CAPACITORS CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES ORLIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE ELECTRICITY MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES NANOTECHNOLOGY PERFORMING OPERATIONS SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES TRANSPORTING |
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