RESIST COMPOSITION METHOD OF FORMING RESIST PATTERN AND COMPOUND

• Main Authors: KAIHO TAKAAKI, ARAI MASATOSHI
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 09.06.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

(과제) 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법 및 화합물의 제공. (해결 수단) 노광에 의해 산을 발생하고, 산의 작용에 의해 현상액에 대한 용해성이 변화하는 레지스트 조성물로서, 노광에 의해 산을 발생하는 산 발생제 성분과, 일반식 (d0) 으로 나타내는 화합물을 포함하는 광 염기 실활제 성분을 함유하는 레지스트 조성물. 지지체 상에, 상기 레지스트 조성물을 사용하여 레지스트막을 형성하는 공정, 상기 레지스트막을 노광하는 공정, 및 상기 노광 후의 레지스트막을 현상하여 레지스트 패턴을 형성하는 공정을 포함하는 레지스트 패턴...