SUBSTRATE HOLDING/ROTATING DEVICE SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

• Main Authors: TAKI AKIHIKO, KABA HIROMICHI
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 06.04.2017
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

A substrate holding/rotating apparatus comprises: an elastic support unit which elastically supports a support unit of an operating pin at a holding position; a driving magnet which is mounted by corresponding to the operating pin; and an opening magnet which is formed in the status of non-rotation, which forms a certain magnetic field generation area, through which each operating pin, which rotates by accompanying the rotation of a rotating frame leaning toward the direction of rotation of the rotating frame, may pass and through which only the driving magnet corresponding to some operation pins of the plurality of operating pins may pass, which grants repulsive power or absorption force to the driving magnet of the operating pins passing through the magnetic field generation area, and which generates a force to allow the support unit of the operating pin elastically supported on the holding position by the elastic support unit to head for the opening position by opposing the elastic force. The present invention aims to provide a substrate holding/rotating apparatus with a magnet conversion method, which is able to well support and rotate a substrate and to change the contact and support position of the substrate by an operating pin while rotating the substrate. 이 기판 유지 회전 장치는, 가동 핀의 지지부를 유지 위치에 탄성 지지하는 탄성 지지 유닛과, 가동 핀에 대응하여 장착된 구동용 자석과, 비회전 상태로 형성된 개방 자석으로서, 회전대의 회전에 수반하여 회전하는 각 가동 핀이 통과 가능한 소정의 자계 발생 영역으로서 상기 회전대의 회전 방향에 관해 치우쳐서 또한 복수개의 가동 핀 중 일부의 가동 핀에 대응하는 구동용 자석밖에 통과할 수 없게 형성된 자계 발생 영역을 형성하고, 당해 자계 발생 영역을 통과하는 상기 가동 핀의 구동용 자석에 반발력 또는 흡인력을 부여하여, 상기 탄성 지지 유닛에 의해 상기 유지 위치에 탄성 지지되어 있는 당해 가동 핀의 상기 지지부에 당해 탄성력에 대항하여 상기 개방 위치로 향하게 하는 힘을 발생시키는 개방 자석을 포함한다.