INDUCTIVE MONITORING OF CONDUCTIVE TRENCH DEPTH

복수의 전도성 배선들을 갖는 층을 갖는 집적 회로의 제작 시에, 집적 회로의 층을 제공하기 위해, 기판의 층이 연마된다. 기판의 층은 전도성 배선들을 제공하기 위해 전도성 라인들을 포함한다. 기판의 층은 트렌치에 전도성 재료로 형성된 폐쇄된 전도성 루프를 포함한다. 트렌치에서의 전도성 재료의 깊이는 유도성 모니터링 시스템을 사용하여 모니털이되고, 신호가 생성된다. 모니터링은 폐쇄된 전도성 루프를 간헐적으로 통과하는 자기장을 생성하는 것을 포함한다. 신호로부터 시간에 걸친 값들의 시퀀스가 추출되고, 값들의 시퀀스는 시간에 걸친 전도성...

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Main Authors LU WEI, SWEDEK BOGUSLAW A, WANG ZHEFU, WANG ZHIHONG, IRAVANI HASSAN G, BENVEGNU DOMINIC J, TU WEN CHIANG, CARLSSON INGEMAR
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 20.02.2017
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Summary:복수의 전도성 배선들을 갖는 층을 갖는 집적 회로의 제작 시에, 집적 회로의 층을 제공하기 위해, 기판의 층이 연마된다. 기판의 층은 전도성 배선들을 제공하기 위해 전도성 라인들을 포함한다. 기판의 층은 트렌치에 전도성 재료로 형성된 폐쇄된 전도성 루프를 포함한다. 트렌치에서의 전도성 재료의 깊이는 유도성 모니터링 시스템을 사용하여 모니털이되고, 신호가 생성된다. 모니터링은 폐쇄된 전도성 루프를 간헐적으로 통과하는 자기장을 생성하는 것을 포함한다. 신호로부터 시간에 걸친 값들의 시퀀스가 추출되고, 값들의 시퀀스는 시간에 걸친 전도성 재료의 깊이를 표현한다. In fabrication of an integrated circuit having a layer with a plurality of conductive interconnects, a layer of a substrate is polished to provide the layer of the integrated circuit. The layer of the substrate includes conductive lines to provide the conductive interconnects. The layer of the substrate includes a closed conductive loop formed of a conductive material in a trench. A depth of the conductive material in the trench is monitored using an inductive monitoring system and a signal is generated. Monitoring includes generating a magnetic field that intermittently passes through the closed conductive loop. A sequence of values over time is extracted from the signal, the sequence of values representing the depth of the conductive material over time.
Bibliography:Application Number: KR20177002030