METROLOGY OPTIMIZED INSPECTION

• Main Authors: PARK ALLEN, CHANG ELLIS, MACNAUGHTON CRAIG
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 13.07.2016
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MATERIALS THEREFOR; MEASURING; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; TESTING

웨이퍼 검사 프로세스의 하나 이상의 파라미터들을 결정하기 위한 방법들 및 시스템들이 제공된다. 하나의 방법은 웨이퍼 계측 시스템에 의해 생성되는 웨이퍼에 대한 계측 데이터를 획득하는 단계를 포함한다. 방법은 또한 계측 데이터에 기반하여 웨이퍼 또는 다른 웨이퍼에 대한 웨이퍼 검사 프로세스의 하나 이상의 파라미터들을 결정하는 단계를 포함한다. Methods and systems for determining one or more parameters of a wafer inspection process are provided. One m...