DETERMINATION OF GAIN FOR EDDY CURRENT SENSOR
일 양상에서, 폴리싱을 제어하는 방법은, 인-라인 또는 독립형 모니터링 시스템으로부터, 제 1 기판을 폴리싱하기 전에, 제 1 기판 상의 전도성 막의 초기 두께의 측정치를 수신하는 단계, 폴리싱 시스템에서 하나 또는 그 초과의 기판들을 폴리싱하는 단계 - 하나 또는 그 초과의 기판들은 제 1 기판을 포함함 -, 하나 또는 그 초과의 기판들의 폴리싱 동안에, 제 1 신호를 생성하기 위해, 와전류 모니터링 시스템을 이용하여, 하나 또는 그 초과의 기판들을 모니터링하는 단계, 제 1 기판의 폴리싱의 시작을 위해 제 1 신호의 시작 값을...
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| Main Authors | , , , , , , , |
|---|---|
| Format | Patent |
| Language | English Korean |
| Published |
04.07.2016
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| Abstract | 일 양상에서, 폴리싱을 제어하는 방법은, 인-라인 또는 독립형 모니터링 시스템으로부터, 제 1 기판을 폴리싱하기 전에, 제 1 기판 상의 전도성 막의 초기 두께의 측정치를 수신하는 단계, 폴리싱 시스템에서 하나 또는 그 초과의 기판들을 폴리싱하는 단계 - 하나 또는 그 초과의 기판들은 제 1 기판을 포함함 -, 하나 또는 그 초과의 기판들의 폴리싱 동안에, 제 1 신호를 생성하기 위해, 와전류 모니터링 시스템을 이용하여, 하나 또는 그 초과의 기판들을 모니터링하는 단계, 제 1 기판의 폴리싱의 시작을 위해 제 1 신호의 시작 값을 결정하는 단계, 초기 두께의 측정치 및 시작 값에 기초하여, 게인을 결정하는 단계, 하나 또는 그 초과의 기판들 중 적어도 하나의 기판의 폴리싱 동안에 수집된 제 1 신호의 적어도 일부에 대해, 게인 및 제 1 신호에 기초하여, 제 2 신호를 계산하는 단계를 포함한다. |
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| AbstractList | 일 양상에서, 폴리싱을 제어하는 방법은, 인-라인 또는 독립형 모니터링 시스템으로부터, 제 1 기판을 폴리싱하기 전에, 제 1 기판 상의 전도성 막의 초기 두께의 측정치를 수신하는 단계, 폴리싱 시스템에서 하나 또는 그 초과의 기판들을 폴리싱하는 단계 - 하나 또는 그 초과의 기판들은 제 1 기판을 포함함 -, 하나 또는 그 초과의 기판들의 폴리싱 동안에, 제 1 신호를 생성하기 위해, 와전류 모니터링 시스템을 이용하여, 하나 또는 그 초과의 기판들을 모니터링하는 단계, 제 1 기판의 폴리싱의 시작을 위해 제 1 신호의 시작 값을 결정하는 단계, 초기 두께의 측정치 및 시작 값에 기초하여, 게인을 결정하는 단계, 하나 또는 그 초과의 기판들 중 적어도 하나의 기판의 폴리싱 동안에 수집된 제 1 신호의 적어도 일부에 대해, 게인 및 제 1 신호에 기초하여, 제 2 신호를 계산하는 단계를 포함한다. |
| Author | BENNETT DOYLE E SWEDEK BOGUSLAW A XU KUN IRAVANI HASSAN G CARLSSON INGEMAR LIU TZU YU SHEN SHIH HAUR TU WEN CHIANG |
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