ELECTROCONDUCTIVE SUPPORT FOR AN OLED, OLED INCORPORATING SAME, AND PRODUCTION THEROF
본 발명은 다음 순서로 유리 기판(1), 스트랜드(20)를 갖는 금속 격자(2) 전극, 금속 격자(2) 아래의 전기 절연성 빛 추출 층(41), 빛 추출 층 상의, 1.7 내지 2.3의 굴절률 n을 가지며 주어진 조성을 갖는 두께가 부분적으로 구조화된 층(3)을 포함하고, 상기 부분적으로 구조화된 층은 금속 격자를 적어도 부분적으로 함유하는 캐비티를 갖는 구조화된 영역(31), 및 빛 추출 층 상의 하측 영역(30)이라고 불리는 또 다른 영역으로부터 형성된 것인 OLED용 전기 전도성 지지체(100 내지 300)에 관한 것이다. 구...
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Main Authors | , |
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Format | Patent |
Language | English Korean |
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23.11.2015
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Abstract | 본 발명은 다음 순서로 유리 기판(1), 스트랜드(20)를 갖는 금속 격자(2) 전극, 금속 격자(2) 아래의 전기 절연성 빛 추출 층(41), 빛 추출 층 상의, 1.7 내지 2.3의 굴절률 n을 가지며 주어진 조성을 갖는 두께가 부분적으로 구조화된 층(3)을 포함하고, 상기 부분적으로 구조화된 층은 금속 격자를 적어도 부분적으로 함유하는 캐비티를 갖는 구조화된 영역(31), 및 빛 추출 층 상의 하측 영역(30)이라고 불리는 또 다른 영역으로부터 형성된 것인 OLED용 전기 전도성 지지체(100 내지 300)에 관한 것이다. 구조화된 영역(31)의 이른바 최상부 표면, 즉, 기판으로부터 가장 먼 표면과 금속 격자(2)의 이른바 상부 표면, 즉, 기판으로부터 가장 먼 표면 사이의 거리 H는 절대값으로 100 ㎚ 이하이다.
An electrically conductive OLED carrier includes in this order a glazing substrate; an electrode arranged in a metal grid made up of strands; an electrically insulating light extraction layer under the metal grid; and a layer partially structured in its thickness. The layer of refractive is of index n3 of 1.7 to 2.3, and is located on the light extraction layer. The partially structured layer is formed from a region structured with cavities at least partially containing the metal grid; and from another region, called the low region, located on the light extraction layer. The separation H between the surface of the structured region called the high surface, and therefore that furthest from the substrate, and the surface of the metal grid called the upper surface, and therefore that furthest from the substrate is, in absolute value, smaller than or equal to 100 nm. |
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AbstractList | 본 발명은 다음 순서로 유리 기판(1), 스트랜드(20)를 갖는 금속 격자(2) 전극, 금속 격자(2) 아래의 전기 절연성 빛 추출 층(41), 빛 추출 층 상의, 1.7 내지 2.3의 굴절률 n을 가지며 주어진 조성을 갖는 두께가 부분적으로 구조화된 층(3)을 포함하고, 상기 부분적으로 구조화된 층은 금속 격자를 적어도 부분적으로 함유하는 캐비티를 갖는 구조화된 영역(31), 및 빛 추출 층 상의 하측 영역(30)이라고 불리는 또 다른 영역으로부터 형성된 것인 OLED용 전기 전도성 지지체(100 내지 300)에 관한 것이다. 구조화된 영역(31)의 이른바 최상부 표면, 즉, 기판으로부터 가장 먼 표면과 금속 격자(2)의 이른바 상부 표면, 즉, 기판으로부터 가장 먼 표면 사이의 거리 H는 절대값으로 100 ㎚ 이하이다.
An electrically conductive OLED carrier includes in this order a glazing substrate; an electrode arranged in a metal grid made up of strands; an electrically insulating light extraction layer under the metal grid; and a layer partially structured in its thickness. The layer of refractive is of index n3 of 1.7 to 2.3, and is located on the light extraction layer. The partially structured layer is formed from a region structured with cavities at least partially containing the metal grid; and from another region, called the low region, located on the light extraction layer. The separation H between the surface of the structured region called the high surface, and therefore that furthest from the substrate, and the surface of the metal grid called the upper surface, and therefore that furthest from the substrate is, in absolute value, smaller than or equal to 100 nm. |
Author | GUIMARD DENIS ZAGDOUN GEORGES |
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