SELF-CENTERING PROCESS SHIELD

• Main Authors: YOSHIDOME GOICHI, YEE NELSON, HANSON RYAN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 20.11.2015
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

프로세스 실드는, 내측 표면 및 외측 표면을 갖는 세장형 환형 본체; 립 - 립은 본체의 제 1 단부에 근접하여, 본체의 외측 표면으로부터 방사상 외측으로 연장하며, 그에 따라 본체의 제 1 부분이 제 1 단부를 향하여 립을 지나 연장함 -; 립 내의 복수의 개구들; 및 리드가 프로세스 실드의 정상에 배치되는 경우, 프로세스 실드의 정상에 타겟 조립체를 정렬시키기 위해, 복수의 개구들 중 각각의 개구 내에 배치되는 핀;을 포함할 수 있으며, 핀은 세장형 본체를 포함하며, 세장형 본체는, 제 1 직경을 가지며 그리고 비스듬한 주변 엣...