SELF-CENTERING PROCESS SHIELD
프로세스 실드는, 내측 표면 및 외측 표면을 갖는 세장형 환형 본체; 립 - 립은 본체의 제 1 단부에 근접하여, 본체의 외측 표면으로부터 방사상 외측으로 연장하며, 그에 따라 본체의 제 1 부분이 제 1 단부를 향하여 립을 지나 연장함 -; 립 내의 복수의 개구들; 및 리드가 프로세스 실드의 정상에 배치되는 경우, 프로세스 실드의 정상에 타겟 조립체를 정렬시키기 위해, 복수의 개구들 중 각각의 개구 내에 배치되는 핀;을 포함할 수 있으며, 핀은 세장형 본체를 포함하며, 세장형 본체는, 제 1 직경을 가지며 그리고 비스듬한 주변 엣...
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Main Authors | , , |
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Format | Patent |
Language | English Korean |
Published |
20.11.2015
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Abstract | 프로세스 실드는, 내측 표면 및 외측 표면을 갖는 세장형 환형 본체; 립 - 립은 본체의 제 1 단부에 근접하여, 본체의 외측 표면으로부터 방사상 외측으로 연장하며, 그에 따라 본체의 제 1 부분이 제 1 단부를 향하여 립을 지나 연장함 -; 립 내의 복수의 개구들; 및 리드가 프로세스 실드의 정상에 배치되는 경우, 프로세스 실드의 정상에 타겟 조립체를 정렬시키기 위해, 복수의 개구들 중 각각의 개구 내에 배치되는 핀;을 포함할 수 있으며, 핀은 세장형 본체를 포함하며, 세장형 본체는, 제 1 직경을 가지며 그리고 비스듬한 주변 엣지를 구비한 제 1 표면, 제 1 표면과 대향하며 제 2 직경을 갖는 제 2 표면, 및 제 1 표면과 제 2 표면 사이의 측벽을 가지며, 측벽은 제 3 직경을 갖는 오목한 부분을 갖는다.
A process shield may include an elongated annular body having an outer surface and an inner surface; a lip extending radially outward from the outer surface of the body proximate a first end of the body such that a first portion of the body extends beyond the lip toward the first end; a plurality of openings in the lip; and a pin disposed in each of the plurality of openings to align the target assembly atop the process shield when the lid is placed atop the process shield, wherein the pin comprises an elongated body having a first surface with a beveled peripheral edge, wherein the first surface has a first diameter, a second surface opposing the first surface, wherein the second surface has a second diameter, and a sidewall, between the first surface and the second surface, wherein the sidewall has a concave portion having a third diameter. |
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AbstractList | 프로세스 실드는, 내측 표면 및 외측 표면을 갖는 세장형 환형 본체; 립 - 립은 본체의 제 1 단부에 근접하여, 본체의 외측 표면으로부터 방사상 외측으로 연장하며, 그에 따라 본체의 제 1 부분이 제 1 단부를 향하여 립을 지나 연장함 -; 립 내의 복수의 개구들; 및 리드가 프로세스 실드의 정상에 배치되는 경우, 프로세스 실드의 정상에 타겟 조립체를 정렬시키기 위해, 복수의 개구들 중 각각의 개구 내에 배치되는 핀;을 포함할 수 있으며, 핀은 세장형 본체를 포함하며, 세장형 본체는, 제 1 직경을 가지며 그리고 비스듬한 주변 엣지를 구비한 제 1 표면, 제 1 표면과 대향하며 제 2 직경을 갖는 제 2 표면, 및 제 1 표면과 제 2 표면 사이의 측벽을 가지며, 측벽은 제 3 직경을 갖는 오목한 부분을 갖는다.
A process shield may include an elongated annular body having an outer surface and an inner surface; a lip extending radially outward from the outer surface of the body proximate a first end of the body such that a first portion of the body extends beyond the lip toward the first end; a plurality of openings in the lip; and a pin disposed in each of the plurality of openings to align the target assembly atop the process shield when the lid is placed atop the process shield, wherein the pin comprises an elongated body having a first surface with a beveled peripheral edge, wherein the first surface has a first diameter, a second surface opposing the first surface, wherein the second surface has a second diameter, and a sidewall, between the first surface and the second surface, wherein the sidewall has a concave portion having a third diameter. |
Author | YOSHIDOME GOICHI HANSON RYAN YEE NELSON |
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SubjectTerms | BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION |
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