LIQUID PROCESSING APPARATUS

• Main Authors: AKIMOTO MASAMI, INOUE SHIGEHISA, HIGASHIJIMA JIRO, DOUKI YUICHI
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 08.05.2015
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

Provided is a liquid processing apparatus which discharges process liquid to a cup while preventing the generation of mist. In a liquid processing apparatus which supplies the process liquid to a substrate (W) from a process liquid supply part (40) and performs a liquid process, a substrate holding part (31) which can rotate around a vertical axis includes a holding surface (311) for adsorbing the substrate (W) horizontally. A guide part (34) is integrated with the substrate holding part (31) and is arranged around the substrate (W) held by the substrate holding part (31). The height of the guide part is the same as or is lower than the height of the upper side of the peripheral part of the substrate (W). The guide part includes a guide surface (347) for guiding the process liquid leaked from the upper side of the substrate (W). A rotation cup (35) rotates with the substrate holding part (31) together. The rotation cup guides the process liquid to a cup (50a-50c) prepared to the outside of the substrate holding part (31) in a gap between the guide part (34) and the rotation cup. 미스트의 발생을 억제하면서 처리액을 컵을 향하여 배출하는 것이 가능한 액 처리 장치를 제공한다. 처리액 공급부(40)로부터, 회전하는 기판(W)에 처리액을 공급하여 액 처리를 행하는 액 처리 장치에 있어서, 연직축 둘레로 회전 가능하게 구성된 기판 유지부(31)는, 기판(W)을 수평으로 흡착 유지하기 위한 유지면(311)을 구비한다. 가이드부(34)는, 기판 유지부(31)와 일체로 형성되며, 그 기판 유지부(31)에 유지된 기판(W)의 주위에 배치되고, 기판(W)의 주연부의 상면의 높이와 동일하거나, 이 높이보다 낮은 높이 위치에 마련되며, 기판(W)의 상면을 흘러 온 처리액을 안내하기 위한 안내면(347)을 구비한다. 회전컵(35)은, 기판 유지부(31)와 함께 일체적으로 회전하며, 기판 유지부(31)의 외방에 마련된 컵(50a∼50c)을 향하여, 가이드부(34)와의 사이에서 처리액을 안내한다.