MONITORING DEVICE AND METHOD FOR PLASMA PROCESS SYSTEM

• Main Authors: YAMAMOTO HIDEYUKI, SASAKI ICHIRO, FURUSE MUNEO, MASUDA TOSHIO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 12.06.2003
• Edition: 7
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

PURPOSE: An apparatus and a method for monitoring a plasma processing apparatus are provided to be capable of predicting the generation of abnormal discharge and detecting rapidly the generation. CONSTITUTION: A process chamber(100) of a plasma processing apparatus is a vacuum container capable of attaining a degree of vacuum on the order of 10¬-6 Torr. An antenna(110) for radiating electromagnetic waves is provided at the upper part of the process chamber, and a lower electrode(130) on which a sample(W), such as a wafer, is to be mounted is provided at the lower part thereof. The antenna(110) and the lower electrode(130) are disposed in parallel facing each other. Magnetic field generator(101), which is composed of an electromagnetic coil and a yoke, for example, is disposed around the process chamber(100). The electromagnetic wave radiated from the antenna(110) and the magnetic field generated by the magnetic field generator(101) interact with each other to change the process gas introduced to the process chamber into a plasma(P), with which the sample(W) is processed. 본 발명의 목적은 플라즈마처리장치에 있어서의 이상방전의 발생을 예측하고, 또는 그 발생을 신속하게 검출하는 것이다. 처리가스를 공급하기 위한 가스공급구멍을 형성한 도전성 플레이트(115)를 구비한 상부전극(110) 및 시료를 탑재하기 위한 탑재대를 구비한 하부전극(130)을 수용한 진공처리실(100)과, 상기 상부전극(110)의 상기 가스공급구멍에 처리가스를 공급하는 처리가스공급수단(117) 및 상기 진공처리실을 배기하는 배기수단(106)과, 상기 상부전극에 고주파 전력을 인가하여 상부전극과 하부전극 사이에 플라즈마를 생성하는 고주파 전원(121)과, 상기 상부전극에 고주파 전력을 인가하여 상부전극에 직류 바이어스전위를 발생시키는 고주파 바이어스전원(122)과, 상기 상부전극에 생성되는 직류 바이어스전위를 기초로 이상방전의 유무를 판정하는 이상방전판정수단(152)을 구비하였다.