PHOTOACTIVE COMPOUNDS, PHOTORESIST COMPOSITIONS INCLUDING THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHODS

• Main Authors: THOMAS MARANGONI, PAUL J LABEAUME, CEN YINJIE, LI MINGQI, JAMES F CAMERON, EMAD AQAD
• Format: Patent
• Language: English; Japanese
• Published: 25.01.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CHEMISTRY; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HETEROCYCLIC COMPOUNDS; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; METALLURGY; ORGANIC CHEMISTRY; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

To provide photoactive compounds, photoresist compositions including the same, and pattern formation methods.SOLUTION: There is provided a photoactive compound including an organic cation; and an anion represented by Formula (1): wherein X is an organic group; Y1 and Y2 are each independently a non-hydrogen substituent; Y1 and Y2 together form a ring; Z2 is hydrogen, halogen, C1-30 alkyl, C3-30 cycloalkyl, C3-30 heterocycloalkyl, C6-50 aryl, C7-50 arylalkyl, C7-50 alkylaryl, C6-50 aryloxy, C3-30 heteroaryl, C4-30 alkylheteroaryl, C4-30 heteroarylalkyl, or C3-30 heteroaryloxy; Z2 further comprises one or more divalent linking groups as part of its structure; Z2 and one of Y1 or Y2 together form a ring; X and Z2 together form a ring; and X and one of Y1 or Y2 together form a ring.SELECTED DRAWING: None 【課題】光活性化合物、それを含むフォトレジスト組成物及びパターン形成方法の提供。【解決手段】有機カチオンと、下記式（１）で表されるアニオンとを含む光活性化合物。JPEG2024012132000037.jpg30170（Ｘは有機基であり；Ｙ１及びＹ２は、独立して、水素ではない置換基であり；Ｙ１とＹ２は、一緒に環を形成し；Ｚ２は、水素、ハロゲン、Ｃ１～３０アルキル、Ｃ３～３０シクロアルキル、Ｃ３～３０ヘテロシクロアルキル、Ｃ６～５０アリール、Ｃ７～５０アリールアルキル、Ｃ７～５０アルキルアリール、Ｃ６～５０アリールオキシ、Ｃ３～３０ヘテロアリール、Ｃ４～３０アルキルヘテロアリール、Ｃ４～３０ヘテロアリールアルキル、又はＣ３～３０ヘテロアリールオキシであり；Ｚ２は、その構造の一部として１つ以上の二価連結基を更に含み；Ｚ２とＹ１又はＹ２のうちの一方は、一緒に環を形成し；ＸとＺ２は、一緒に環を形成し；ＸとＹ１又はＹ２のうちの一方は、一緒に環を形成する）【選択図】なし