DRAWING DEVICE

• Main Authors: FUJITA TAKEYA, FUKUDA HIROSHI, HAYAKAWA NAOTO, HARA NOZOMI
• Format: Patent
• Language: English; Japanese
• Published: 04.04.2022
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

To accurately perform drawing for a substrate.SOLUTION: A first moving mechanism 22a horizontally moves a first stage 21a in a Y direction below a pattern drawing part 4. A second moving mechanism 22b horizontally moves a second stage 21b in the Y direction below the pattern drawing part 4. The second moving mechanism 22b is disposed side by side with the first moving mechanism 22a in an X direction. A frame 7 supports the first and second moving mechanisms 22a and 22b. A counterweight 51 is attached to the frame 7 so as to be movable in the X direction crossing a substrate moving direction. A weight movement control unit controls a weight moving mechanism 52 so as to dispose the counterweight 51 at a position where deformation of the frame 7 caused by the weight of each of the first and second stages 21a and 21b is suppressed on the basis of the positions of the first and second stages 21a and 21b in the Y direction. Thus, drawing can be accurately performed for a substrate 9.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】基板に対する描画を精度良く行う。【解決手段】第１移動機構２２ａは、パターン描画部４の下方にて第１ステージ２１ａをＹ方向に水平移動する。第２移動機構２２ｂは、パターン描画部４の下方にて第２ステージ２１ｂをＹ方向に水平移動する。第２移動機構２２ｂは、Ｘ方向において第１移動機構２２ａと並んで配置される。フレーム７は、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂを支持する。カウンタウエイト５１は、基板移動方向と交差するＸ方向に移動可能にフレーム７に取り付けられる。ウエイト移動制御部は、Ｙ方向における第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂの位置に基づいて、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂの重量によるフレーム７の変形を抑制する位置にカウンタウエイト５１が配置されるようにウエイト移動機構５２を制御する。これにより、基板９に対する描画を精度良く行うことができる。【選択図】図１