More Information
Summary:PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an improved system and an improved method which can be used for forming high-quality devices and structures.SOLUTION: A processing chamber 500 includes: a first showerhead 515 positioned between a lid 502 and a processing region; and a faceplate 509 positioned between the first showerhead and the processing region 560. The chamber also includes a second showerhead 535 positioned in the chamber between the faceplate and the processing region of the semiconductor processing chamber. The second showerhead includes at least two plates coupled together to define a volume 537 between the at least two plates. The at least two plates at least partially define channels 540, 545 running through the second showerhead.SELECTED DRAWING: Figure 5 【課題】高品質のデバイス及び構造を形成するために使用することができる改良されたシステム及び方法を提供する。【解決手段】処理チャンバ500は、リッド502と処理領域との間に位置付けられた第1のシャワーヘッド515を含み、第1のシャワーヘッドと処理領域560との間に位置付けられた面板509を含む。チャンバはまた、面板と半導体処理チャンバの処理領域との間のチャンバ内に位置付けられた第2のシャワーヘッド535を含む。第2のシャワーヘッドは、少なくとも2つの板の間に空間537を画定するように連結された少なくとも2つの板を含む。少なくとも2つの板は、第2のシャワーヘッドを通るチャネル540、545を少なくとも部分的に画定する。【選択図】図5
Bibliography:Application Number: JP20170171674