METHOD OF MANUFACTURING COLAR FILTER FOR SOLID IMAGING ELEMENT, COLAR FILTER FOR SOLID IMAGING ELEMENT AND SOLID IMAGING ELEMENT

• Main Author: TANABE MASATO
• Format: Patent
• Language: English; Japanese
• Published: 29.06.2017
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color filter for a solid imaging element having a comparative high opening ratio while suppressing mixed color due to enter of light from colored layers adjacent to each other.SOLUTION: A method of manufacturing a color filter for a solid imaging element includes a step in which, after coating colored resist of a first colored layer 3 on a partition layer 10 on which a reverse pattern of the first colored layer 3 is formed, by a photolithography method using a photo mask 4 for the first colored layer 3, a first color filter pattern composed of a plurality of first colored layers 3, at least one of an exposure amount and development time in the photolithography method is adjusted and the upper end of the first color filter pattern is made protrude on the reverse pattern of the first colored layer 3 formed in the partition layer 10.SELECTED DRAWING: Figure 2 【課題】 本発明は、隣接する着色層からの光の進入による混色を抑制しつつ、開口率が比較的高い固体撮像素子用カラーフィルタを提供することを目的とする。【解決手段】 本発明では、第一の着色層３の逆パターンが形成された隔壁層１０に第一の着色層３の着色レジストを塗布した後、第一の着色層３用のフォトマスク４を用いたフォトリソグラフィ法によって、複数の第一の着色層３からなる第一のカラーフィルタパターンを形成するとともに、フォトリソグラフィ法における露光量および現像時間の少なくとも一方を調整して、第一のカラーフィルタパターンの上端を隔壁層１０に形成された第一の着色層３の逆パターン上にはみださせる工程を有する。【選択図】 図２