MICROWAVE ION SOURCE AND ION EXTRACTION PART

• Main Authors: TAKAHASHI NOBUAKI, MURATA HIROHIKO
• Format: Patent
• Language: English; Japanese
• Published: 29.01.2015
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance plasma density in the plasma chamber of a microwave ion source.SOLUTION: A microwave ion source 10 includes a plasma chamber 12 including a microwave introduction part 16 and an ion extraction part 18, and a magnetic field generator 40 for generating a magnetic field M in the plasma chamber 12 toward the direction of travel P of microwaves. The ion extraction part 18 includes an ion beam extraction surface 34 crossing the magnetic field M, a coating part 52 forming at least a part of the ion beam extraction surface 34, and a magnetic material 50 provided on the back of the coating part 52. The coating part 52 is formed of a secondary electron discharge material. 【課題】マイクロ波イオン源のプラズマ室におけるプラズマ密度を向上する。【解決手段】マイクロ波イオン源１０は、マイクロ波導入部１６とイオン引出部１８とを備えるプラズマ室１２と、マイクロ波の進行方向Ｐに向けられた磁場Ｍをプラズマ室１２に発生させる磁場発生器４０と、を備える。イオン引出部１８は、磁場Ｍに交差するイオンビーム引出面３４と、イオンビーム引出面３４の少なくとも一部を形成する被覆部５２と、被覆部５２の背後に設けられている磁性体５０と、を備える。被覆部５２は、二次電子放出材料で形成されている。【選択図】図１