DETECTEUR DE PARTICULES REALISE DANS UN MATERIAU SEMI-CONDUCTEUR

• Main Authors: OTTAVIANI LAURENT, BIONDO STEPHANE, HURTADO EP VERVISCH VANESSA LAURENCE JILL, VERVISCH WILFRIED VIVIAN ROLAND
• Format: Patent
• Language: French
• Published: 24.11.2017
• Subjects: INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICALDEVICES; MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY; PERFORMING OPERATIONS; PHYSICS; TESTING; TRANSPORTING

Un aspect de l'invention concerne un dispositif de détection de particules transparent comprenant un empilement comportant : une première couche (1) d'un matériau conducteur et formant une cathode ; une deuxième couche (2) d'un matériau métallique recouvrant la première couche (1) ; une troisième couche (3) d'un semi-conducteur à grand gap dopé n+ recouvrant la deuxième couche (2) ; une quatrième couche (4) d'un semi-conducteur à grand gap dopé n recouvrant la troisième couche (3) ; une cinquième couche (5) d'un semi-conducteur à grand gap dopé p+ recouvrant la quatrième couche (4) ; une sixième couche (6) d'un matériau conducteur recouvrant la cinquième couche (5) et formant une anode. Le dispositif comporte en outre une face avant (F) partant de la sixième couche (6) et une face arrière (B) partant de la première couche (1) ; la face avant (F) comportant un premier orifice (O1) ménagé dans la sixième couche (6) et traversant entièrement ladite sixième couche (6) ; la face arrière (B) comportant un deuxième orifice (O2) ménagé dans les première, deuxième et troisième couches (1, 2, 3) et traversant entièrement lesdites première, deuxième et troisième couches (1, 2, 3) ; le deuxième orifice (O2) étant aligné avec le premier orifice (01). A system for measuring a particle beam includes a central and peripheral part and a front and back panel. The central part includes a system for producing a space charge zone to be passed through by a beam to be measured, charge carriers of a first and second type being generated by the beam when the latter passes through the space charge zone. The peripheral part includes a system for collecting at least one type of charge carrier from among the first or second type. The peripheral part surrounds the central part such that a particle beam can pass through the central part without passing through the peripheral part, an orifice being provided in back panel, in a region of the central part such that the thickness of the region, along a normal axis to the front panel is less than that of the peripheral part along the normal axis.