Composición repelente al agua libre de flúor

• Main Author: KNAUP, Wolfgang
• Format: Patent
• Language: Spanish
• Published: 28.05.2019
• Subjects: ADHESIVES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; CHEMISTRY; COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES ORLACQUERS; COMPOSITIONS BASED THEREON; CORRECTING FLUIDS; DYES; FILLING PASTES; INKS; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS; METALLURGY; MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS; MISCELLANEOUS COMPOSITIONS; NATURAL RESINS; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; PAINTS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; POLISHES; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; USE OF MATERIALS THEREFOR; WOODSTAINS

Una composición, que comprende al menos los componentes (A) y (B) y, de un modo opcional, al menos uno de los componentes (C) a (E): (A) Un poliacrilato obtenido en la polimerización de los monómeros: (M1) CH2 = CR3COO-R1 con (M2) CH2 = CR3COO-R2 y de un modo opcional (M3) CH2 = CR3-X-R4; (B) una cera, con un punto de fusión variable en el intervalo de 50 a 130 °C, en donde el punto de fusión se determina de acuerdo con la norma ASTM D 938-05/DIN ISO 2207: 1983; (C) un isocianato bloqueado; (D) un polisiloxano orgánico; (E) una resina de melamina; en donde R1 es la fracción de alcohol en el monómero (M1), que contiene de 1 a 6 átomos de carbono; R2 es la fracción de alcohol en el monómero (M2), que contiene de 12 a 40 átomos de carbono; R3 es H, CH3 o C2H5; X es COO o CONH; R4 es glicidilo o CH2(CH2)n-OR5, en donde n es un número entero variable en el intervalo de 1-10 y R5 es H o un residuo que contiene de 1 a 6 átomos de carbono; y en el que la composición se basa en agua y/o un disolvente orgánico y no contiene flúor; en donde R1 es alquilo C1-C6 ramificado o no ramificado o cíclico, y R2 es alquilo C12-C40 ramificado o no ramificado o cíclico. Composition, comprising at least components (A) and (B) and optionally at least one of components (C) to (E):(A) polyacrylate obtained in the polymerisation of components(M1) CH2═CR3COO-R1 with(M2) CH2═CR3COO-R2 and optionally(M3) CH2═CR3-X-R4(B) wax(C) blocked isocyanate(D) organic polysiloxane;(E) melamine resin;whereinR1 is a residue containing from 1 to 8 carbon atoms;R2 is a residue containing from 9 to 40 carbon atoms;R3=H, CH3, C2H5;X=COO, CONHR4=glycidyl or CH2(CH2)n-OR5,whereinn is an integer in the range of from 1-10 andR5 is H or a residue containing from 1 to 6 carbon atoms;and wherein the composition is based on water and/or an organic solvent and is fluorine-free.