Hartschicht mit hoher Verschleißfestigkeit und Zähigkeit
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Hartschicht mit verbesserter Verschleißfestigkeit und verbesserter Zähigkeit. Eine Hartschicht gemäß der vorliegenden Erfindung wird unter Verwendung eines PVD-Verfahrens auf einer Oberfläche eines Basismaterials ausgebildet, wobei: die Hartschicht eine erste...
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Format | Patent |
Language | German |
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18.06.2020
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Summary: | Die vorliegende Erfindung betrifft eine Hartschicht mit verbesserter Verschleißfestigkeit und verbesserter Zähigkeit. Eine Hartschicht gemäß der vorliegenden Erfindung wird unter Verwendung eines PVD-Verfahrens auf einer Oberfläche eines Basismaterials ausgebildet, wobei: die Hartschicht eine erste Hartschicht und eine zweite Hartschicht beinhaltet; die erste Hartschicht eine Dicke von etwa 0,1 - 3,0 µm aufweist und aus TiAlN (0,3 ≤ a ≤ 0,7) besteht und ein einphasiges Gefüge besitzt; und die zweite Hartschicht eine Dicke von etwa 0,5 - 10 µm aufweist und aus TiAlMeN (0,3 ≤ a ≤ 0,7, 0 ≤ b ≤ 0,05, wobei Me mindestens eines ist, das aus V, Zr, Si, Nb, Cr, Mo, Hf, Ta und W gewählt wird) besteht; wobei gemäß einem XRD-Phasenanalyseverfahren ein Verhältnis ([200]/[111]) der Intensität einer [200]-Spitze zu der Intensität einer [111]-Spitze etwa 1,5 oder höher ist; die zweite Hartschicht vorzugsweise in einer [200]-Richtung wächst; wobei sich die [200]-Spitze auf etwa 42,7° - 44,6° befindet und aus drei Phasen besteht, und die [111]-Spitze auf etwa 37,0° - 38,5° liegt und aus drei Phasen besteht; und wenn eine Spitze mit einer größten Intensität unter den Spitzen der drei Phasen eine Hauptspitze ist und die übrigen Spitzen Unterspitzen sind, ein Verhältnis (Hauptspitze/Unterspitzen) der Intensität der Hauptspitze zu den Intensitäten der Unterspitzen in einer [200]-Fläche etwa 2 oder höher ist, und ein Verhältnis (Hauptspitze/Unterspitzen) der Intensität der Hauptspitze zu den Intensitäten der Unterspitzen in einer [111]-Fläche etwa 2 oder höher ist.
The present invention relates to a hard film having improved wear resistance and improved toughness. A hard film according to the present invention is formed by using a PVD method on a surface of a base material, wherein: the hard film includes a first hard layer and a second hard layer; the first hard layer has a thickness of approximately 0.1-3.0 μm and is composed of Ti1-aAlaN (0.3≤a≤0.7), and has a single phase structure; and the second hard layer has a thickness of approximately 0.5-10 μm and is composed of Ti1-a-bAlaMebN (0.3≤a≤0.7, 0≤b≤0.05, the Me being at least one selected from V, Zr, Si, Nb, Cr, Mo, Hf, Ta and W); according to an XRD phase analysis method, a ratio ([200]/[111]) of the intensity of a [200] peak to the intensity of a [111] peak is approximately 1.5 or higher; the second hard layer preferentially grows in a [200] direction; the [200] peak is located at approximately 42.7°-44.6° and is composed of three phases, and the [111] peak is located at approximately 37.0°-38.5° and is composed of three phases; and when a peak having a largest intensity among the peaks of the three phases is a main peak and remaining peaks are sub-peaks, a ratio (main peak/sub-peaks) of the intensity of the main peak to the intensities of the sub-peaks in a [200] face is approximately 2 or higher, and a ratio (main peak/sub-peaks) of the intensity of the main peak to the intensities of the sub-peaks in a [111] face is approximately 2 or higher. |
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Bibliography: | Application Number: DE20181104782T |