Herstellungsverfahren für einen Grabenkondensator mit einem Isolationskragen, der über einen vergrabenen Kontakt einseitig mit einem Substrat elektrisch verbunden ist, insbesondere für eine Halbleiterspeicherzelle
Production of a trench capacitor comprises forming a trench (5) in a substrate (1) using a hard mask (2, 3) with a corresponding opening, placing a capacitor dielectric (30) in the trench and over the mask, pouring an electrically conducting filler (20) into the trench until it is below the upper si...
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Format | Patent |
Language | German |
Published |
02.11.2006
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