Verfahren zum Herstellen einer Halbleiterstruktur
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Halbleiterstruktur, mit den Schritten: DOLLAR A a. Vorsehen eines Halbleitersubstrats (1); DOLLAR A b. Vorsehen einer Opferschicht (20) zwischen einer zu strukturierenden Schicht (10) und einer Resistschicht (30); DOLLAR A c. Stru...
Saved in:
Main Authors | , |
---|---|
Format | Patent |
Language | German |
Published |
07.10.2004
|
Edition | 7 |
Subjects | |
Online Access | Get full text |
Cover
Loading…
Be the first to leave a comment!