Verfahren zum Herstellen einer Halbleiterstruktur

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Halbleiterstruktur, mit den Schritten: DOLLAR A a. Vorsehen eines Halbleitersubstrats (1); DOLLAR A b. Vorsehen einer Opferschicht (20) zwischen einer zu strukturierenden Schicht (10) und einer Resistschicht (30); DOLLAR A c. Stru...

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Bibliographic Details
Main Authors STEGEMANN, MAIK, WEGE, STEPHAN
Format Patent
LanguageGerman
Published 07.10.2004
Edition7
Subjects
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
SEMICONDUCTOR DEVICES
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