FOTOMASKENANORDNUNG MIT REFLEKTIERENDER FOTOMASKE UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER REFLEKTIERENDEN FOTOMASKE

• Main Authors: Schedel, Thorsten, Bender, Markus, Schenke, Andreas
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 16.07.2020
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Eine Fotomaskenanordnung (900) umfasst eine reflektierende Fotomaske (100) und eine Schutzstruktur (200). Die reflektierende Fotomaske (100) umfasst ein Substrat (110) und ein reflektierendes Mehrschichtsystem (120) auf einer ersten Substratoberfläche (111) des Substrats (110) an einer Vorderseite der Fotomaske (100). Die Schutzstruktur (200) auf einer zweiten Substratoberfläche (112) des Substrats (110) an einer Rückseite der Fotomaske (100) ist bei einer Temperatur unterhalb von 150 Grad Celsius von der Fotomaske (100) abnehmbar. A photomask mask assembly includes a reflective photomask and a protection structure. The reflective photomask includes a substrate and a reflective multilayer on a first substrate surface of the substrate at a front side of the reflective photomask. The protection structure is on a second substrate surface of the substrate at a backside of the reflective photomask, and is detachable from the reflective photomask at a temperature below 150 degree Celsius.