MIKROWELLEN-AUSHEIZEN VON FLOWABLE OXIDES MIT EINFANGSCHICHTEN UND INTEGRIERTE SCHALTUNSSTRUKTUR

• Main Authors: Kassim, Joseph K, Krishnan, Rishikesh, Krishnan, Bharat, Xu, Yiheng, Shepard, Joseph F, Lee, Rinus Tek Po
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 15.07.2021
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

Verfahren, umfassend:ein Abscheiden eines Isolators (156) mit Verunreinigungen unter Durchführung eines fließfähigen chemischen Gasphasenabscheidungs-Prozesses;ein Ausheilen des Isolators (156) durch Belichten des Isolators mit ultraviolettem Licht (161), während Ozon über den Isolator (156) strömt, um einen ausgeheilten Isolator (156) zu erzeugen; undein Ausheizen des ausgeheilten Isolators durch Belichten des ausgeheilten Isolators (156) mit Mikrowellenstrahlung (162) in einer trägen Umgebungsatmosphäre, so dass dieser verdichtet wird,ein Bilden eines zweiten Isolators (155), der sich von dem Isolator (156) auf dem ausgeheilten Isolator (156, 157) darin unterscheidet, dass er die Verunreinigungen nicht umfasst, sodass dieser während des Ausheizens nicht verdichtet wird; undein Wiederholen der Abscheidung zur Abscheidung eines zusätzlichen Isolators (157) unter Durchführung eines fließfähigen chemischen Gasphasenabscheidungs-Prozesses und des Ausheilens des zusätzlichen Isolators (157), der die Verunreinigungen enthält, durch Belichten des zusätzlichen Isolators mit ultraviolettem Licht (161), während Ozon über den Isolator (157) strömt, sodass dieser während eines wiederholten Ausheizens mit Mikrowellenstrahlung in einer trägen Umgebungsatmosphäre verdichtet wird, um den zusätzlichen ausgeheilten Isolator (157) auf dem zweiten Isolator (155) zu bilden. An insulator is formed by flowable chemical vapor deposition (FCVD) process. The insulator is cured by exposing the insulator to ultraviolet light while flowing ozone over the insulator to produce a cured insulator. The curing process forms nitrogen, hydrogen, nitrogen monohydride, or hydroxyl-rich atomic clusters in the insulator. Following the curing process, these methods select wavelengths of microwave radiation (that will be subsequently used during annealing) so that such wavelengths excite the nitrogen, hydrogen, nitrogen monohydride, or hydroxyl-rich atomic clusters. Then, these methods anneal the cured insulator by exposing the cured insulator to microwave radiation in an inert (e.g., non-oxidizing) ambient atmosphere, at a temperature below 500° C., so as to increase the density of the cured insulator.