Antireflex-Beschichtung mit stabiler Reflektivität und Farbe unter Winkel und unter Abrasion

• Main Authors: Apitz, Dirk, Bourquin, Sébastien, Brauneck, Ulf, Henn, Christian
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 06.09.2018
• Subjects: ADVERTISING; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; DISPLAYING; EDUCATION; HOROLOGY; LABELS OR NAME-PLATES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; PHYSICS; SEALS; SIGNS; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS

Ziel der Erfindung ist es, ein mechanisch beständiges Antireflex-System bereit zu stellen. Dazu ist ein transparentes Element (1) vorgesehen, umfassend ein transparentes Substrat (3) und auf diesem Substrat (1) eine mehrlagige Antireflex-Beschichtung (5), welche zumindest vier Lagen umfasst, wobei sich Lagen mit hohem Brechungsindex (51, 53) mit Lagen (50, 52, 54) mit niedrigerem Brechungsindex abwechseln, und wobei die Lagen (51, 53) mit höherem Brechungsindex eine größere Härte als die Lagen (50, 52, 54) mit niedrigerem Brechungsindex aufweisen, und wobei die oberste Lage (60) der mehrlagigen Antireflex-Beschichtung (5) eine Lage mit niedrigerem Brechungsindex ist, und wobei die Lagen (51 - 54) bei gegebenen Brechungsindizes hinsichtlich ihrer Dicke so ausgewählt sind, dass bei einer Reduktion der Schichtdicke der obersten Lage (60) um 10% oder um 10 Nanometer, je nachdem welcher dieser beiden Fälle die geringere verbleibende Schichtdicke ergibt, , zumindest eines der folgenden Merkmale gilt:- die Farbe der Restreflexion unter 0° Einfallswinkel bei verminderter Schichtdicke unterscheidet sich von der Farbe unter 0° Lichteinfallswinkel bei unverminderter Schichtdicke der obersten Lage (54) im CIE xyz-Farbsystem um nicht mehr als Δx=0.05, Δy=0.05, bevorzugt nicht mehr als Δx=0.03, Δy=0.03, besonders bevorzugt nicht mehr als Δx=0.02, Δy=0.02,- die photopische Reflektivität unter 0° Einfallswinkel bei verminderter Schichtdicke unterscheidet sich von der photopischen Reflektivität unter 0° Einfallswinkel bei unverminderter Schichtdicke um nicht mehr als ΔR_ph=1.5%. The object of the invention lies in providing a mechanically enduring antireflection system. To this end, a transparent element (1) is provided, comprising a transparent substrate (3) and, on this substrate (1), a multilayer antireflection coating (5) which comprises at least four layers, wherein layers with a high refractive index (51, 53) alternate with layers (50, 52, 54) with a lower refractive index, and wherein the layers (51, 53) with a higher refractive index have a greater hardness than the layers (50, 52, 54) with a lower refractive index and wherein the uppermost layer (60) of the multilayer antireflection coating (5) is a layer with a lower refractive index and wherein the layers (51-54), given the refractive indices, are selected in respect of their thickness in such a way that, in the case of a reduction of the layer thickness of the uppermost layer (60) by 10% or by 10 nanometres, depending on which of these two cases yields the lower remaining layer thickness, at least one of the following features applies: - the colour of the residual reflection at an angle of incidence of 0° in the case of a reduced layer thickness differs in the CIE xyz colour system from the colour at an angle of incidence of 0° with a non-reduced layer thickness of the uppermost layer (54) by no more than ∆x = 0.05, ∆y = 0.05, preferably by no more than ∆x = 0.03, ∆y = 0.03, particularly preferably by no more than ∆x = 0.02, ∆y = 0.02, - the photopic reflectivity at an angle of incidence of 0° in the case of a reduced layer thickness differs from the photopic reflectivity at an angle of incidence of 0° in the case of a non-reduced layer thickness by no more than ∆R_ph = 1.5%.