Vorrichtung und Verfahren zur Reinigung eines Objekts

Zur Reinigung eines Objekts (204, 206, 208, 210, 212, 214) von Kontamination mit einer kohlenstoffhaltigen Verbindung wird eine Vorrichtung (200) vorgeschlagen, die mindestens eine Zufuhreinheit (220) für sauerstoffhaltiges Gas sowie eine organische Substanz aufweist, die mindestens eine Kohlenstoff...

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Main Author Kaller, Julian
Format Patent
LanguageGerman
Published 31.08.2017
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CINEMATOGRAPHY
CLEANING
CLEANING IN GENERAL
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
OPTICS
ORIGINALS THEREFOR
PERFORMING OPERATIONS
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
SEMICONDUCTOR DEVICES
TRANSPORTING
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Summary:Zur Reinigung eines Objekts (204, 206, 208, 210, 212, 214) von Kontamination mit einer kohlenstoffhaltigen Verbindung wird eine Vorrichtung (200) vorgeschlagen, die mindestens eine Zufuhreinheit (220) für sauerstoffhaltiges Gas sowie eine organische Substanz aufweist, die mindestens eine Kohlenstoffdoppelbindung und/oder mindestens eine Kohlenstoffdreifachbindung aufweist. Zur Reinigung des Objekts (204, 206, 208, 210, 212, 214) von Kontamination mit einer kohlenstoffhaltigen Verbindung, wird es einem Gemisch aus Ozon und einer organischen Substanz, die mindestens eine Kohlenstoffdoppelbindung und/oder mindestens eine Kohlenstoffdreifachbindung aufweist, ausgesetzt.
Bibliography:Application Number: DE201610216266