Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem Aktuatorsystem

• Main Authors: BERTELE, ANDREAS, KLOESCH, PETER, MAHLMANN, MARTIN, SIGEL, BENJAMIN, WEBER, JOCHEN
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 26.08.2010
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie (310) mit einem Aktuatorsystem (1) zur mechanischen Aktuierung mindestens einer Komponente der Projektionsbelichtungsanlage, wobei das Aktuatorsystem (1) mindestens ein Mittel (2, 4, 6, 60) zur Reduzierung und/od...