Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem Aktuatorsystem
Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie (310) mit einem Aktuatorsystem (1) zur mechanischen Aktuierung mindestens einer Komponente der Projektionsbelichtungsanlage, wobei das Aktuatorsystem (1) mindestens ein Mittel (2, 4, 6, 60) zur Reduzierung und/od...
Saved in:
Main Authors | , , , , |
---|---|
Format | Patent |
Language | German |
Published |
26.08.2010
|
Subjects | |
Online Access | Get full text |
Cover
Loading…
Be the first to leave a comment!