Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem Aktuatorsystem

• Main Authors: BERTELE, ANDREAS, KLOESCH, PETER, MAHLMANN, MARTIN, SIGEL, BENJAMIN, WEBER, JOCHEN
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 26.08.2010
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie (310) mit einem Aktuatorsystem (1) zur mechanischen Aktuierung mindestens einer Komponente der Projektionsbelichtungsanlage, wobei das Aktuatorsystem (1) mindestens ein Mittel (2, 4, 6, 60) zur Reduzierung und/oder Dämpfung des Wärmeeintrags aufgrund der bei dem Betrieb des Aktuatorsystems (1) entstehenden Wärme in die mindestens eine Komponente (7) aufweist. The disclosure relates to a projection exposure apparatus for semiconductor lithography which includes an actuator system to mechanically actuate a component of the projection exposure apparatus. The actuator system has at least one mechanism to reduce and/or dampen the heat input into the component that is due to heat arising during the operation of the actuator system.