Abstract Die Erfindung betrifft einen Fotolack, insbesondere zur Herstellung einer durchBestrahlung strukturierbaren Beschichtung, umfassenda) ein Copolymer aus zumindest einem ersten 2-Oxazolin-Derivat der Formel I mit zumindest einem zweiten 2-Oxazolin-Derivat der Formel II wobei R1 und R2 jeweils aliphatische und/oder aromatische Reste darstellen, wobei der Rest R2 eine funktionelle Gruppe aufweist, die bei Bestrahlung vernetzbar ist;b) einen Fotoinitiator;c) einen Vernetzer, der bei Bestrahlung mit der funktionellen Gruppe reagiert;d) optional einen Stabilisator;e) optional ein Tensid;f) zumindest ein Lösungsmittel.Ein derartiger Fotolack eignet sich zur Herstellung einer gut haftenden Beschichtung insbesondere auf Leiterplattensubstraten, wobei in der Folge eine Strukturierung einer erstellten Beschichtung mit hoher Auflösung möglich ist.Des Weiteren betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer durch fotochemische Vernetzung strukturierten Beschichtung auf einem Substrat, eine so erhältliche Beschichtung sowie ein Leiterplattensubstrat mit einer derartigen Beschichtung.
AbstractList Die Erfindung betrifft einen Fotolack, insbesondere zur Herstellung einer durchBestrahlung strukturierbaren Beschichtung, umfassenda) ein Copolymer aus zumindest einem ersten 2-Oxazolin-Derivat der Formel I mit zumindest einem zweiten 2-Oxazolin-Derivat der Formel II wobei R1 und R2 jeweils aliphatische und/oder aromatische Reste darstellen, wobei der Rest R2 eine funktionelle Gruppe aufweist, die bei Bestrahlung vernetzbar ist;b) einen Fotoinitiator;c) einen Vernetzer, der bei Bestrahlung mit der funktionellen Gruppe reagiert;d) optional einen Stabilisator;e) optional ein Tensid;f) zumindest ein Lösungsmittel.Ein derartiger Fotolack eignet sich zur Herstellung einer gut haftenden Beschichtung insbesondere auf Leiterplattensubstraten, wobei in der Folge eine Strukturierung einer erstellten Beschichtung mit hoher Auflösung möglich ist.Des Weiteren betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer durch fotochemische Vernetzung strukturierten Beschichtung auf einem Substrat, eine so erhältliche Beschichtung sowie ein Leiterplattensubstrat mit einer derartigen Beschichtung.
Author WIESBROCK FRANK DR
SCHENK VERENA
STELZER FRANZ DR
ELLMAIER LISA
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SubjectTerms ADHESIVES
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS
CHEMISTRY
CINEMATOGRAPHY
COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES ORLACQUERS
COMPOSITIONS BASED THEREON
CORRECTING FLUIDS
DYES
ELECTROGRAPHY
FILLING PASTES
HOLOGRAPHY
INKS
MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
MATERIALS THEREFOR
METALLURGY
MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS
MISCELLANEOUS COMPOSITIONS
NATURAL RESINS
ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS
ORIGINALS THEREFOR
PAINTS
PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
POLISHES
THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP
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Title FOTOLACK
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