王帅, 秦强, 李世斌, 张晗, 王保柱, 刘忠英, & 刘呈则. (2020). 响应曲面法优化GH3535平板样片中FLiNaK熔盐去污工艺条件. 核化学与放射化学, 42(5), 349-354. https://doi.org/10.7538/hhx.2020.YX.2019059
Chicago Style (17th ed.) Citation王帅, 秦强, 李世斌, 张晗, 王保柱, 刘忠英, and 刘呈则. "响应曲面法优化GH3535平板样片中FLiNaK熔盐去污工艺条件." 核化学与放射化学 42, no. 5 (2020): 349-354. https://doi.org/10.7538/hhx.2020.YX.2019059.
MLA (9th ed.) Citation王帅, et al. "响应曲面法优化GH3535平板样片中FLiNaK熔盐去污工艺条件." 核化学与放射化学, vol. 42, no. 5, 2020, pp. 349-354, https://doi.org/10.7538/hhx.2020.YX.2019059.
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