基于金属锡掺杂浓度变化的光学性能可调谐ITO薄膜制备研究
O484.1%O437; 本文通过电子束蒸发技术制备了金属锡掺杂浓度不同的一系列ITO薄膜.采用X射线衍射仪、原子力显微镜、紫外-可见光-近红外分光光度计、四探针测电阻仪和Z扫描系统分别对ITO薄膜的物相结构、微观形貌、光学吸收、方块电阻和非线性光学性能进行测试和表征.结果表明,随着金属锡掺杂浓度由 10%增加到 30%:ITO薄膜的结晶质量增加;薄膜表面粗糙度增加,晶粒尺寸逐渐增大;等离子体吸收增强,且吸收峰的位置发生红移,光学带隙变窄;薄膜的方块电阻不断减小;非线性吸收系数逐渐增加,绝对值最大可以增至2.59×10-7 cm/W.时域有限差分拟合结果表明金属锡掺杂浓度不同的ITO薄膜电场强...
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Published in | 人工晶体学报 Vol. 52; no. 9; pp. 1617 - 1623 |
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Main Authors | , , , , , , |
Format | Journal Article |
Language | Chinese |
Published |
上海理工大学光电信息与计算机工程学院,上海 200093%上海理工大学光电信息与计算机工程学院,上海 200093
01.09.2023
教育部光学仪器与系统工程研究中心,上海市现代光学系统重点实验室,上海 200093 |
Subjects | |
Online Access | Get full text |
ISSN | 1000-985X |
DOI | 10.3969/j.issn.1000-985X.2023.09.008 |
Cover
Abstract | O484.1%O437; 本文通过电子束蒸发技术制备了金属锡掺杂浓度不同的一系列ITO薄膜.采用X射线衍射仪、原子力显微镜、紫外-可见光-近红外分光光度计、四探针测电阻仪和Z扫描系统分别对ITO薄膜的物相结构、微观形貌、光学吸收、方块电阻和非线性光学性能进行测试和表征.结果表明,随着金属锡掺杂浓度由 10%增加到 30%:ITO薄膜的结晶质量增加;薄膜表面粗糙度增加,晶粒尺寸逐渐增大;等离子体吸收增强,且吸收峰的位置发生红移,光学带隙变窄;薄膜的方块电阻不断减小;非线性吸收系数逐渐增加,绝对值最大可以增至2.59×10-7 cm/W.时域有限差分拟合结果表明金属锡掺杂浓度不同的ITO薄膜电场强度变化规律与实验结果相一致. |
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AbstractList | O484.1%O437; 本文通过电子束蒸发技术制备了金属锡掺杂浓度不同的一系列ITO薄膜.采用X射线衍射仪、原子力显微镜、紫外-可见光-近红外分光光度计、四探针测电阻仪和Z扫描系统分别对ITO薄膜的物相结构、微观形貌、光学吸收、方块电阻和非线性光学性能进行测试和表征.结果表明,随着金属锡掺杂浓度由 10%增加到 30%:ITO薄膜的结晶质量增加;薄膜表面粗糙度增加,晶粒尺寸逐渐增大;等离子体吸收增强,且吸收峰的位置发生红移,光学带隙变窄;薄膜的方块电阻不断减小;非线性吸收系数逐渐增加,绝对值最大可以增至2.59×10-7 cm/W.时域有限差分拟合结果表明金属锡掺杂浓度不同的ITO薄膜电场强度变化规律与实验结果相一致. |
Author | 洪瑞金 王琦 陶春先 张大伟 南博洋 韩朝霞 林辉 |
AuthorAffiliation | 上海理工大学光电信息与计算机工程学院,上海 200093%上海理工大学光电信息与计算机工程学院,上海 200093;教育部光学仪器与系统工程研究中心,上海市现代光学系统重点实验室,上海 200093 |
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DOI | 10.3969/j.issn.1000-985X.2023.09.008 |
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Discipline | Engineering |
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Issue | 9 |
Keywords | 电子束蒸发 掺杂 氧化铟锡 ITO enhanced electric field doping LSPR Z扫描 Z-scan electron beam evaporation 局部表面等离子体共振 nonlinear optical response 非线性光学响应 增强电场 |
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PublicationTitle | 人工晶体学报 |
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PublicationYear | 2023 |
Publisher | 上海理工大学光电信息与计算机工程学院,上海 200093%上海理工大学光电信息与计算机工程学院,上海 200093 教育部光学仪器与系统工程研究中心,上海市现代光学系统重点实验室,上海 200093 |
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Title | 基于金属锡掺杂浓度变化的光学性能可调谐ITO薄膜制备研究 |
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