APA (7th ed.) Citation

Choi), 최. M., Yoo), 유., Jung), 정. S., Lee), 이. Y., Lee), 이. R., Kim), 김. H., & Pyo), 표. G. (2024). 라만 분광법을 이용한 반도체 공정 중 표면 분석. Biuletyn Uniejowski, 57(2), 71-85. https://doi.org/10.5695/JSSE.2024.57.2.71

Chicago Style (17th ed.) Citation

Choi), 최태민(Tae Min, 유진욱(JinUk Yoo), 정은수(Eun Su Jung), 이채연(Chae Yeon Lee), 이화림(Hwa Rim Lee), 김동현(Dong Hyun Kim), and 표성규(Sung Gyu Pyo). "라만 분광법을 이용한 반도체 공정 중 표면 분석." Biuletyn Uniejowski 57, no. 2 (2024): 71-85. https://doi.org/10.5695/JSSE.2024.57.2.71.

MLA (9th ed.) Citation

Choi), 최태민(Tae Min, et al. "라만 분광법을 이용한 반도체 공정 중 표면 분석." Biuletyn Uniejowski, vol. 57, no. 2, 2024, pp. 71-85, https://doi.org/10.5695/JSSE.2024.57.2.71.