金属的电化学微区刻蚀方法

O646; 本文概述了现行的金属微区刻蚀方法并详细地介绍几种电化学刻蚀方法,比较了掩膜法、扫描电化学显微镜法、约束刻蚀剂层法、电化学扫描遂道显微镜法和超短电位脉冲法各自的特点.从加工精度(能否进行微米和纳米级加工)、加工效率(工序复杂程度,能否批量制造或复制)、可用范围(主要是能否加工复杂三维立体结构)等各项因素进行了综合分析,结果表明,各种加工方法各有其优缺点,从总的效果来看,约束刻蚀剂层技术在微加工方面具有较大优势....

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Published in电化学 Vol. 8; no. 2; pp. 139 - 147
Main Authors 蒋利民, 田中群, 刘柱方, 毛秉伟, 黄海苟, 孙建军
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 厦门大学化学系,固体表面物理化学国家重点实验室,福建,厦门,361005 2002
Subjects
约束刻蚀剂层技术
微加工
电化学刻蚀
金属
刻蚀
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ISSN1006-3471
DOI10.3969/j.issn.1006-3471.2002.02.003

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Summary:O646; 本文概述了现行的金属微区刻蚀方法并详细地介绍几种电化学刻蚀方法,比较了掩膜法、扫描电化学显微镜法、约束刻蚀剂层法、电化学扫描遂道显微镜法和超短电位脉冲法各自的特点.从加工精度(能否进行微米和纳米级加工)、加工效率(工序复杂程度,能否批量制造或复制)、可用范围(主要是能否加工复杂三维立体结构)等各项因素进行了综合分析,结果表明,各种加工方法各有其优缺点,从总的效果来看,约束刻蚀剂层技术在微加工方面具有较大优势.
ISSN:1006-3471
DOI:10.3969/j.issn.1006-3471.2002.02.003