Etching mask optimization of InAs/GaSb superlattice mid-wavelength infared 640×512 focal plane array - 郝宏玥 向伟 王国伟 徐应强 韩玺 孙瑶耀 蒋洞微 张宇 廖永平 魏思航 牛智川 (Chinese physics B, 2017)
Keywords: ICP刻蚀; 中波; 优化; 掩模技术; 电感耦合等离子体; 红外焦平面阵列; 蚀刻; 超晶格