Method and apparatus for forming SiC thin film on high polymer base material by plasma CVD
Sano, Keiichiro, Nomura, Masaya, Tamamaki, Hiroaki, Hatanaka, Yoshinori
Year of Publication 16.04.2002
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Year of Publication 16.04.2002
Patent
Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von polymeren Grundwerkstoffen mit dünnen SiC-Schichten
HATANAKA, YOSHINORI, NOMURA, MASAYA, SANO, KEIICHIRO, TAMAMAKI, HIROAKI
Year of Publication 14.03.2002
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Year of Publication 14.03.2002
Patent