Search Results - "SPENO PATRICK" :: K.UTB vyhledávací portál

Loading…

Critical dimension control of printed features using non-printing fill patterns

by Wu, Chung-Hsi, Brunner, Timothy, Butt, Shahid, Speno, Patrick
Year of Publication 04.11.2004

Get full text

Patent

Loading…

Method for reducing nonuniformity of image printed on substrate using light micro-image cover and light micro- image cover

by BUTT SHAHID, BRUNNER THIMOTY ALLAN, SPENO PATRICK
Year of Publication 29.07.2009

Get full text

Patent

Loading…

Critical dimension control of printed features using non-printing fill patterns

by BRUNNER TIMOTHY ALLAN, WU CHUNG-HSI J, BUTT SHAHID, SPENO PATRICK
Year of Publication 11.07.2006

Get full text

Patent

Loading…

Critical dimension control of printed features using non-printing fill patterns

by Wu, Chung-Hsi J, Brunner, Timothy Allan, Butt, Shahid, Speno, Patrick
Year of Publication 11.07.2006

Get full text

Patent

Loading…

Verfahren zum Reduzieren von Ungleichförmigkeit und Bildverkürzung in einem auf ein Substrat belichteten Bild unter Verwendung einer photolithographischen Maske, und photolithographische Maske

by BRUNNER, THIMOTY ALLAN, WU, CHUNG-HSI, BUTT, SHAHID, SPENO, PATRICK
Year of Publication 14.08.2013

Get full text

Patent

Loading…

Method for reducing nonuniformity of image printed on substrate using light micro-image cover and light micro- image cover

by WU CHUNG-HSI, BUTT SHAHID, BRUNNER THIMOTY ALLAN, SPENO PATRICK
Year of Publication 13.07.2005

Get full text

Patent

Loading…

Verfahren zum Reduzieren von Ungleichförmigkeit und Bildverkürzung in einem auf ein Substrat belichteten Bild unter Verwendung einer photolithographischen Maske, und photolithographische Maske

by BRUNNER, THIMOTY ALLAN, WU, CHUNG-HSI, BUTT, SHAHID, SPENO, PATRICK
Year of Publication 24.02.2005

Get full text

Patent

Critical dimension control of printed features using non-printing fill patterns

Method for reducing nonuniformity of image printed on substrate using light micro-image cover and light micro- image cover

Critical dimension control of printed features using non-printing fill patterns

Critical dimension control of printed features using non-printing fill patterns

Verfahren zum Reduzieren von Ungleichförmigkeit und Bildverkürzung in einem auf ein Substrat belichteten Bild unter Verwendung einer photolithographischen Maske, und photolithographische Maske

Method for reducing nonuniformity of image printed on substrate using light micro-image cover and light micro- image cover

Verfahren zum Reduzieren von Ungleichförmigkeit und Bildverkürzung in einem auf ein Substrat belichteten Bild unter Verwendung einer photolithographischen Maske, und photolithographische Maske

Refine Results

Format

Subject Area

Topic

Language

Year of Publication

Database