Elektronenstrahlverdampfen von Silizium: Eine vielfältige Depositionsmethode für Anwendungen in der Photovoltaik, für Displays oder MEMS
Amkreutz, Daniel, Muske, Martin
Published in Vakuum in Forschung und Praxis : Zeitschrift für Vakuumtechnologie, Oberflèachen und Dünne Schichten (01.03.2019)
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Journal Article
Elektronenstrahlverdampfen von Silizium
Amkreutz, Daniel, Muske, Martin
Published in Vakuum in Forschung und Praxis : Zeitschrift für Vakuumtechnologie, Oberflèachen und Dünne Schichten (01.03.2019)
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Journal Article
Reactor design for thin film catalyst activity characterization
Trinh, Cham, Wei, Yangjun, Yadav, Anupam, Muske, Martin, Grimm, Nico, Li, Zehua, Thum, Lukas, Wallacher, Dirk, Schlögl, Robert, Skorupska, Katarzyna, Schlatmann, Rutger, Amkreutz, Daniel
Published in Chemical engineering journal (Lausanne, Switzerland : 1996) (01.12.2023)
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Journal Article
Potential of interdigitated back-contact silicon heterojunction solar cells for liquid phase crystallized silicon on glass with efficiency above 14
Thi Trinh, Cham, Preissler, Natalie, Sonntag, Paul, Muske, Martin, Jäger, Klaus, Trahms, Martina, Schlatmann, Rutger, Rech, Bernd, Amkreutz, Daniel
Published in Solar energy materials and solar cells (01.01.2018)
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Journal Article
Elektronenstrahlverdampfen von Silizium: Eine vielfältige Depositionsmethode für Anwendungen in der Photovoltaik, für Displays oder MEMS
Amkreutz, Daniel, Muske, Martin
Published in Vakuum in Forschung und Praxis : Zeitschrift für Vakuumtechnologie, Oberflèachen und Dünne Schichten (01.03.2019)
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Journal Article
A model of preferential (100) crystal orientation of Si grains grown by aluminium-induced layer-exchange process
Sarikov, Andrey, Schneider, Jens, Muske, Martin, Sieber, Ina, Gall, Stefan
Published in Thin solid films (16.07.2007)
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Journal Article
Conference Proceeding
Theoretical study of the initial stage of the aluminium-induced layer-exchange process
Sarikov, Andrey, Schneider, Jens, Klein, Juliane, Muske, Martin, Gall, Stefan
Published in Journal of crystal growth (25.01.2006)
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Journal Article
Conference Proceeding
Aluminium-induced crystallisation of amorphous silicon: parameter variation for optimisation of the process
Klein, J., Schneider, J., Muske, M., Heimburger, R., Gall, S., Fuhs, W.
Published in Conference Record of the Thirty-first IEEE Photovoltaic Specialists Conference, 2005 (2005)
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Conference Proceeding
TEMPERATURE-RESISTANT TCO LAYER AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
HUEPKES, JUERGEN, LEE, KYO YOUL, GALL, STEFAN, MUSKE, MARTIN, BERGINSKI, MICHAEL, BERGHOLD, JULIANE, RECH, BERND
Year of Publication 15.08.2012
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Year of Publication 15.08.2012
Patent
TEMPERATURE-RESISTANT TCO LAYER AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
HUEPKES, JUERGEN, LEE, KYO YOUL, GALL, STEFAN, MUSKE, MARTIN, BERGINSKI, MICHAEL, BERGHOLD, JULIANE, RECH, BERND
Year of Publication 17.03.2010
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Year of Publication 17.03.2010
Patent
TEMPERATURE-RESISTANT TCO LAYER, PRODUCTION METHOD THEREFOR AND USE THEREOF
HUEPKES, JUERGEN, GALL, STEFAN, MUSKE, MARTIN, BERGINSKI, MICHAEL, LEE, KYUYOUL, BERGHOLD, JULIANE, RECH, BERND
Year of Publication 04.12.2008
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Year of Publication 04.12.2008
Patent
Temperaturstabile TCO-Schicht, Verfahren zur Herstellung und Anwendung
HUEPKES, JUERGEN, GALL, STEFAN, MUSKE, MARTIN, BERGINSKI, MICHAEL, BERGHOLD, JULIANE, LEE, KYUYOUL, RECH, BERND
Year of Publication 04.12.2008
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Year of Publication 04.12.2008
Patent