Verfahren zur Durchlassstromerhöhung in Feldeffekttransistoren durch asymmetrische Konzentrationsprofile von Legierungssubstanzen einer Kanalhalbleiterlegierung und Halbleiterbauelement
FLACHOWSKY, STEFAN, HOENTSCHEL, JAN, SCHEIPER, THILO, LANGDON, STEVEN
Year of Publication 06.03.2014
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Verfahren zum Bilden von einer Gateelektrode einer Halbleitervorrichtung
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Verfahren zur Schwellwerteinstellung für MOS-Bauelemente
BERTHOLD, HEIKE, HOENTSCHEL, JAN, FROHBERG, KAI, RUTTLOFF, KERSTIN, REICHE, KATRIN, GRIEBENOW, UWE, FEUSTEL, FRANK
Year of Publication 03.12.2015
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