불소 플라즈마 에칭 공정에서 보호층으로 사용되는 탄소 도핑된 이트륨 옥시플루오라이드(C:Y-0-F) 층
KERAUDY JULIEN, KIRK MATTHEW PAUL, GUIMOND SEBASTIEN, KRASSNITZER SIEGFRIED, CONIFF JOHN
Year of Publication 23.06.2023
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